接触式光刻机,接近式光刻机-岱美仪器技术服务（上海）有限公司

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自动掩模对准系统参考价：面议

参考价：面议型号：IQ Aligner NT
新型IQ Aligner NT具有高强度和高均匀度的曝光光学器件，新的晶圆处理硬件，可实现全局多点对准的200mm和300mm晶圆全覆盖范围以及优化的工具软件...
型号： IQ Aligne... 品牌：EVG所在地：上海市 对比

光刻机光刻掩膜掩模曝光

2024/3/19 17:45:10522
EVG620 NT-掩模对准光刻机系统参考价：面议

参考价：面议型号：
EVG620 NT-掩模对准光刻机系统EVG ® 620 NT提供国家的本领域掩模对准技术在小化的占位面积，支持高达150毫米晶圆尺寸。
型号：品牌：EVG所在地：上海市 对比

自动掩模对准系统对准系统光刻机光刻机价格掩模对准曝光机

2024/3/19 14:44:054214
EVG610-单面、双面光刻系统参考价：面议

参考价：面议型号：
EVG610-单面、双面光刻系统 EVG光刻机EVG®610是一款紧凑型多功能研发系统，可处理零碎片和大200 mm的晶圆。
型号：品牌：EVG所在地：上海市 对比

自动掩模对准系统对准系统光刻机光刻机价格

2024/3/19 14:42:071640
EVG6200 NT掩模对准光刻系统参考价：面议

参考价：面议型号：
EVG6200 NT掩模对准光刻系统特色：EVG ® 6200 NT掩模对准器为光学双面光刻的多功能工具和晶片尺寸高达200毫米。
型号：品牌：EVG所在地：上海市 对比

自动掩模对准系统对准系统光刻机光刻机价格纳米压印机

2024/3/19 14:40:112293
IQ Aligner 自动掩模对准系统参考价：面议

参考价：面议型号：
IQ Aligner 自动掩模对准系统用于自动非接触近距离掩模对准光刻，进行了处理和优化，用于晶圆片的尺寸高达200毫米。
型号：品牌：EVG所在地：上海市 对比

自动掩模对准系统对准系统光刻机光刻机价格

2024/3/19 14:02:131593
光刻胶匀胶机参考价：面议

参考价：面议型号：EVG101
研发和小规模生产中的单晶圆光刻胶加工。EVG101光刻胶匀胶机在单室设计上可以满足研发工作，与EVG的自动化系统*兼容。EVG101支持大300 mm的晶圆，可...
型号： EVG101 品牌：所在地：上海市 对比

匀胶机匀喷胶机微流控加工光刻胶加工EVG101

2024/4/18 16:02:452675
EVG单面/双面掩模对准光刻机参考价：面议

参考价：面议型号：EVG610
EVG单面/双面掩模对准光刻机EVG610（单面/双面掩模对准光刻机微流控纳米压印）支持各种标准光刻工艺，如真空，硬，软接触和接近式曝光模式，可选择背部对准...
型号： EVG610 品牌：EVG所在地：上海市 对比

EVG光刻机微流控EVG微流控芯片接触式光刻机

2024/3/19 13:39:386428